Strahlmanipulation in Teilchenbeschleunigern (z.B. Bunch Compression), Voll integrierte Systeme aus Kavität mit, Strahlrohr und HF-Verstärker. Strahrohr unter XHV (Enddruck < 1E-10 hPa).
HF-Verstärker auf Basis von Tetroden
Gegentaktbetrieb
Hohe Spannungen
Breiter Frequenzbereich
Pulsbetrieb
komplette Systeme für die Behandlung von und Beschichtung auf Oberflächen mittels Plasmaprozessen
Aktivierung, Reinigung und Ätzen mit Atmosphärendru...
AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrathandhabung unter Vakuum an.
Die erhältlichen Konfiguration...
AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrattransport unter Vakuum an.
Die erhältlichen Konfiguratione...
Vakuumrezipienten wahlweise aus Aluminium oder Edelstahl, Vakuumpumpen in korrosiv-gasfester Ausführung inkl. Ölnebelabscheider mit Ölrückführung, bis...
KIVOS ist ein sehr flexibles, modulares Konzept für Plasmasysteme.
Diese Systeme sind in den verschiedensten Anwendungsbereichen wie zum Beispiel Fe...
Kompakte Systeme, minimale Stellfläche - Hohe Plasmadichten für kurze Prozesszeiten - Optimierte Homogenität durch Plasma-Array mit 2-dimensionalem Ga...
Max. 4 Gasfluss-Controller mit einem Durchfluss von bis zu 500 sccm pro Controller, Netzanschluss: 3/N/PE AC 400/230V, Kammervolumen: 30 l, Abmessunge...
komplette Systeme für die Behandlung von und Beschichtung auf Oberflächen mittels Plasmaprozessen
Aktivierung, Reinigung und Ätzen mit Atmosphärendru...
AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrathandhabung unter Vakuum an.
Die erhältlichen Konfiguration...
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Vakuumrezipienten wahlweise aus Aluminium oder Edelstahl, Vakuumpumpen in korrosiv-gasfester Ausführung inkl. Ölnebelabscheider mit Ölrückführung, bis...
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Max. 4 Gasfluss-Controller mit einem Durchfluss von bis zu 500 sccm pro Controller, Netzanschluss: 3/N/PE AC 400/230V, Kammervolumen: 30 l, Abmessunge...